本文创新性提出IVL‑SPM（血管内冲击波辅助内膜下斑块修饰）技术，该方法不强行牵拉、不损伤真腔，通过内膜下路径 + 冲击波钙化修饰从根源解除器械嵌顿。核心步骤如下：使用聚合物涂层导丝主动Knuckle至内膜下，越过嵌顿部位，建立内膜下通道；沿内膜下送入血管内冲击波（Shockwave IVL）球囊；低压触发冲击波，在“斑块外”碎裂造成器械嵌顿的钙化斑块，解除旋磨头嵌顿；顺利撤出嵌顿旋磨头与球囊，完成后续介入治疗。

患者，64岁女性，冠脉造影提示：右冠状动脉（RCA）弥漫重度狭窄伴广泛重度钙化，远端慢性闭塞（CTO），可见同侧侧支循环。以导丝正向通过闭塞段后，小球囊无法通过闭塞段；即刻选用1.25mm旋磨头对RCA近中段钙化病变行分段式旋磨；旋磨头以15万转/min行旋磨操作时，因CTO病变钙化负荷过重，旋磨头嵌顿于闭塞病变内，先后尝试轻拉、重新低速或高速启动旋磨、切割旋磨鞘管联合Guidezilla导管等方式均未成功；随即尝试对磨头嵌顿处病变进行斑块松解，送入第二根工作导丝并联合2.0mm球囊于旋磨头周围扩张松解斑块，最终顺利解除嵌顿，但旋磨头回撤至RCA中段处再次发生嵌顿，2.0mm球囊也同步嵌顿于RCA远段；术者采用乒乓技术应用Conquest Pro尝试“真腔”通过二次嵌顿部位未果，随即借助内膜下绕行策略，更换导丝Pilot 50建立内膜下通路；血管内超声（IVUS）证实内膜钙化斑块；沿内膜下导丝应用 2.5mm Shockwave震波球囊，低压完成8 个治疗周期，精准碎裂“真腔”环形钙化，顺利解除旋磨头与球囊双重嵌顿；充分钙化修饰后，术者成功植入支架，术后RCA血流恢复TIMI 3级，残余狭窄＜10%。一年造影随访提示支架通畅，无明显再狭窄，远期预后良好。